超瑞電鍍電源：化學便面鍍銅反應原理！
鍍銅電鍍電源，表面銅處理的電鍍電源。一般流程為：膨脹→去鉆污→中和→除油→微蝕→預浸→活化→加速→化學鍍銅。主要部件為陰極和陽極。蘇州新臺興智能電源小編為您講解。
化學鍍銅電鍍電源是電路板制造中的一種工藝，通常也叫沉銅或孔化（PTH）是一種自身催化性氧化還原反應。首先用活化劑處理，使絕緣基材表面吸附上一層活性的粒子通常用的是金屬鈀粒子（鈀是一種十分昂貴的金屬，價格高且一直在上升，為降低成本現在國外有實用膠體銅工藝在運行），銅離子首先在這些活性的金屬鈀粒子上被還原，而這些被還原的金屬銅晶核本身又成為銅離子的催化層，使銅的還原反應繼續在這些新的銅晶核表面上進行。
